半导体
用于半导体制造商的压力仪器
全球半导体产业近年来的重大增长预计将继续到2021年及以后。主要贡献因素包括电气和电子设备中的微电子，人工智能，物联网和行业扩建的增加的增加。由于这些变化发生，半导体供应商面临改善供应以满足需求的挑战 - 即，晶体管密度，提高可靠性，以及降低生产和购买成本。
Ashcroft准备好并愿意帮助半导体制造商接受并克服这一挑战。配备广泛的行业特定的经验，我们拥有帮助开发，工程师，制造和测试高质量半导体生产所需的仪器和设备的知识和技能。
我们提供各种压力测量产品 - 包括与我们的发射器专有的超稳定CVD传感技术-适用于半导体制造应用。我们的产品性能与全球安全认证和最关键的半导体应用性能的遗产相结合。
半导体制造中压力测量的重要性
如今，半导体制造业务依赖于超高纯度(UHP)气体的精确交付，这要求纯度水平超过99.9995%，并对杂散颗粒和湿度进行严格控制。考虑到超高压气体供应系统的重要性，用于其分布的测量和控制技术必须提供高精度、高精度的性能，同时保持系统内部的绝对洁净度。建筑材料在与超高压气体接触时必须保持惰性，尽量减少被困(死)体积的风险，并防止颗粒脱落和被困。
虽然超高压气体对现代半导体的制造至关重要，但其毒性和可燃性对处理这些气体的人的健康和福祉构成重大风险。因此，半导体操作中使用的一些设备需要符合泄漏完整性和危险位置规范和标准(如ATEX和IECEx)，以确保用户安全。
Ashcroft半导体制造的压力仪器
Ashcroft高纯度压力测量解决方案
ZT高纯度变送器和HPX高纯度压力表
我们的ZT / ZX压力变送器和HPX压力表是专门用于半导体应用的。这些产品具有电抛光316L不锈钢湿润部件和VCR兼容，模块化和焊接管接头，具有最小的死体积。它们具有紧凑的设计，可容纳燃气盒和气体输送系统内更高的密度安装配置。ZX11包括ATEC和IECEX危险地点批准。
Ashcroft高纯度压力测量解决方案
Ashcroft si - glass传感器技术
用于洁净室和洁净空间的低差压变送器
我们的许多差压传感器-包括DXLdp, CXLdp, AXLdp和GC30 -集成与Si-GlasⓇ技术，这有助于它们适应超低差压应用的高度关键监测和控制需求。H2O（12.5 PA）中的压力范围低至0.05，允许在令人难以置信的低压力下最紧固的控制。
我们的1130系列仪表旨在结合到手套箱，晶圆处理设备和具有低至0.6的叠层框架，在H2O（150Pa）中的差压范围为0.6。
Ashcroft si - glass传感器技术
常见问题解答
HPX压力表是否有其他尺度和拨号选项？
ZT / ZX压力变送器上是否有其他压力连接？
阿什克罗夫特高纯度产品是如何包装的?
相信阿什克罗夫特专家
在阿什克罗夫特，我们在这里帮助您确定适合您的半导体需求的压力仪器。无论您需要用于标准或洁净室制造环境的仪表、传感器或变送器，我们都会找到完美的产品解决方案。相信我们与您的项目的成功和安全。